skupić się na aplikacji ultradźwiękowej, w dobrej wierze, aby zdobyć klientów
| Miejsce pochodzenia: | Chiny |
|---|---|
| Nazwa handlowa: | FUNSONIC |
| Orzecznictwo: | CE |
| Numer modelu: | FSW-3002-L |
| Minimalne zamówienie: | 1 jednostka |
| Cena: | Negotation |
| Szczegóły pakowania: | Pakowane przez karton |
| Zasady płatności: | T/T, Western Union |
| Możliwość Supply: | 1000 jednostek miesięcznie |
| Nazwa produkcji: | Rozpraszająca atomizacja dyszy ultradźwiękowej 30 kHz | Częstotliwość: | 30 kHz |
|---|---|---|---|
| maksymalna moc: | 50 W | Automatyczny zakres wielkości cząstek: | 15-40 μm |
| Przepływ natrysku: | 0,5-20 ml | Lepkość cieczy: | <30 cps |
| Rozmiar cząsteczki: | < 12 μm | Zastosowanie: | Nadaje się do natryskiwania topnika na całej powierzchni |
| Podkreślić: | Wydział rozpraszania ultradźwięków o niskiej mocy,Połuprzewodnikowa soczewka Ultrasonowa dysza rozpraszająca,30Khz ultrasonowa dysza rozpraszająca |
||
30Khz półprzewodnikowa soczewka ultradźwiękowa szczotka rozpraszająca z niską mocą
Opis:
Typowym zastosowaniem dysz ultradźwiękowych typu rozpraszającego jest powłoka fotorezystorowa na chipach półprzewodnikowych, w której fotorezyst jest rozpylany na chipach półprzewodnikowych.Z powodu rotacyjnego rozpraszania mgły emitowanej przez dysze ultradźwiękowe typu rozpraszającego, może powstać jednolita folia fotorezystancyjna nie tylko na płaszczyźnie płytki, ale także na ścianach bocznych i narożnikach mikrostruktury płytki.rozpraszające dyszki ultradźwiękowe mogą być również stosowane do powłok cienkofyłowych ogniw słonecznych, powłoki do ogniw słonecznych z titanatu wapnia, powłoki do folii przenośnych i odblaskowych AR, powłoki do folii izolacyjnej, powłoki do powłok superhydrofobicznych, powłoki płynu PCB i inne zastosowania.
Parametry:
| Model | FSW-3002-L |
| Nazwa | 30Khz Ultrasonowa atomyzacja dyszy rozpraszającej |
| Częstotliwość | 30 Khz |
| Zakres rozmiarów cząstek cząsteczkowych atomizowanych ((μm) | 15-40 |
| Szerokość rozpylania ((mm) | 40-80 |
| Przepływ oprysku ((ml/min) | 0.5-20 |
| Wysokość rozpylania ((mm) | 30-80 |
| Wiszkość płynu (cps) | < 30 |
| Wielkość cząstek (μm) | < 15 |
| Ciśnienie odchylenia (Mpa) | < 0.05 |
| Zastosowanie | Odpowiednie do powłok fotorezystycznych na chipach półprzewodnikowych |
Zalety:
1. duże powierzchnie do opryskiwania, szerokość opryskiwania: 40-150 mm
2. jednolitość powłoki:> 95% jednolitość
3Oszczędność surowców: wskaźnik wykorzystania surowców wynosi ponad 85%, co jest 4 razy wyższe niż w przypadku tradycyjnego opryskiwania dwukładowego.
4Wysoka precyzja w kontroli grubości powłoki: może przygotować powłoki w zakresie od 20 nm do kilkudziesięciu mikrometrów, z precyzyjną kontrolą grubości powłoki
5Cienkie cząstki
6. Jednolita atomizacja cząstek
7Można go opryskiwać przerywanie lub ciągle.
8. Ultra niski przepływ oprysku
9Nie zablokuje dyszy
10Dźwignia antykorozyjna
11. Wysoka precyzja i kontrolowane opryskiwanie
30Khz półprzewodnikowa soczewka ultradźwiękowa szczotka rozpraszająca z niską mocą