logo
Produkty
Szczegóły produktów
Do domu > Produkty >
Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz

Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz

MOQ: 1 jednostka
Cena: Negotation
Standardowe opakowanie: Pakowane przez karton
Metoda płatności: T/T, western union
Pojemność dostaw: 1000 jednostek miesięcznie
Szczegółowe informacje
Miejsce pochodzenia
Chiny
Nazwa handlowa
FUNSONIC
Orzecznictwo
CE
Numer modelu
FSW-1202-L
Nazwa produkcji:
Rozpraszająca atomizacja dyszy ultradźwiękowej 120 kHz
Częstotliwość:
120 kHz
Maksymalna moc:
10 W
Automatyczny zakres wielkości cząstek:
10-35μm
Przepływ natryskowy:
0,5-20 ml
Lepkość cieczy:
<10 szt
Rozmiar cząstek:
<5μm
Aplikacja:
szeroko stosowane w MEMS, płytkach półprzewodnikowych, ogniwach paliwowych PEM, czujnikach, cewnikac
Podkreślić:

Urządzenia do rozpylania ultradźwiękami o częstotliwości 120 kHz

,

wysokiej częstotliwości ultradźwiękowy rozpraszający spray

,

ultradźwiękowa maszyna do natryskiwania powłok z gwarancją

Opis produktu

Urządzenie do rozpylania rozproszonego ultradźwiękami o wysokiej częstotliwości 120 kHz



Opis: 


Urządzenie do rozpylania rozproszonego ultradźwiękami o wysokiej częstotliwości 120 kHz wykorzystuje rezonans wysokiej częstotliwości 120 kHz przetworników piezoelektrycznych do delikatnego atomizowania ciekłego materiału wsadowego na drobne, równomiernie rozproszone kropelki o rozmiarze mikronowym. Wyposażony w wbudowany kanał przepływu wirowego wewnątrz dyszy, gaz nośny tworzy wirujące pole natrysku rozproszonego pod szerokim kątem, nadając strumieniowi aerozolu doskonałą zdolność powlekania powierzchni.

Zapewnia jednolite, zintegrowane i równomierne powlekanie elementów obrabianych o płaskich powierzchniach, stopniach, rowkach, ściankach bocznych, zakrzywionych powierzchniach i innych zróżnicowanych mikrostrukturach 3D. Rozwiązuje odwieczne ograniczenie branżowe konwencjonalnych dysz ultradźwiękowych skupiających: słabe zwilżanie ścianek bocznych i nierówną grubość warstwy na podłożach o złożonej topografii.

Kompletny system integruje precyzyjny moduł podawania mikrocieczy, system regulacji ciśnienia gazu nośnego i trójosiową platformę ruchomą XYZ, z opcjonalnym modułem kontroli temperatury. Natrysk charakteryzuje się niską energią kinetyczną bez uderzenia pod wysokim ciśnieniem, co niezawodnie chroni delikatne podłoża precyzyjne. Drastycznie redukuje nadmierne rozpylanie i rozpryskiwanie zawiesiny, osiągając znacznie wyższą wydajność materiałową niż tradycyjne rozpylanie dwupłynowe. Dysza charakteryzuje się doskonałą odpornością na zatykanie oraz niższymi kosztami eksploatacji i konserwacji w dłuższej perspektywie.

Grubość powłoki można precyzyjnie regulować od dziesiątek nanometrów do dziesiątek mikronów, zapewniając wyjątkową jednorodność warstwy. Kompatybilny z roztworami o niskiej lepkości i nano-zawiesinami, jest szeroko stosowany w MEA ogniw paliwowych, waflach półprzewodnikowych, urządzeniach MEMS, elementach czujnikowych, cewnikach balonowych medycznych, cienkich warstwach optycznych, elektronicznych powłokach izolacyjnych i innych. Spełnia wymagania dotyczące produkcji ultracienkich warstw, od najnowocześniejszych badań i rozwoju po produkcję pilotażową.



Parametry: 


Model FSW-1202-L
Nazwa Atomizacja dyszy ultradźwiękowej rozproszonej 120 kHz
Częstotliwość 120 kHz
Zakres wielkości cząstek atomizowanych (μm) 10-35
Szerokość natrysku (mm) 40-80
Przepływ natrysku (ml/min) 0,5-20
Wysokość natrysku (mm) 30-80
Lepkość cieczy (cps) <10
Wielkość cząstek (μm) <5
Ciśnienie rozproszenia (Mpa) <0,05
Zastosowanie szeroko stosowany w MEMS, waflach półprzewodnikowych, ogniwach paliwowych PEM, czujnikach, cewnikach balonowych medycznych i cienkich warstwach optycznych



Kluczowe zalety:


✅ Atomizacja o wysokiej częstotliwości 120 kHz generuje kropelki o jednorodnej wielkości, równoważąc jakość drobnej atomizacji i wydajność natrysku

✅ Natrysk rozproszony pod szerokim kątem z przepływem wirowym umożliwia powlekanie 3D rowków, stopni, zakrzywionych powierzchni i ścianek bocznych

✅ Miękki natrysk o niskiej kinetyce chroni delikatne podłoża precyzyjne i skutecznie tłumi aglomerację zawiesiny

✅ Kontrola grubości warstwy w skali nanometrycznej ze stabilną i spójną wydajnością powlekania

✅ Wysoka wydajność surowców redukuje odpady ciekłe; dysza jest odporna na zatykanie, co ułatwia konserwację

✅ Modułowa zintegrowana architektura, możliwość rozbudowy o stopnie grzewcze, uchwyty próżniowe i w pełni automatyczne platformy ruchome



Urządzenie do rozpylania rozproszonego ultradźwiękami o wysokiej częstotliwości 120 kHz



Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz

Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz

Produkty
Szczegóły produktów
Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz
MOQ: 1 jednostka
Cena: Negotation
Standardowe opakowanie: Pakowane przez karton
Metoda płatności: T/T, western union
Pojemność dostaw: 1000 jednostek miesięcznie
Szczegółowe informacje
Miejsce pochodzenia
Chiny
Nazwa handlowa
FUNSONIC
Orzecznictwo
CE
Numer modelu
FSW-1202-L
Nazwa produkcji:
Rozpraszająca atomizacja dyszy ultradźwiękowej 120 kHz
Częstotliwość:
120 kHz
Maksymalna moc:
10 W
Automatyczny zakres wielkości cząstek:
10-35μm
Przepływ natryskowy:
0,5-20 ml
Lepkość cieczy:
<10 szt
Rozmiar cząstek:
<5μm
Aplikacja:
szeroko stosowane w MEMS, płytkach półprzewodnikowych, ogniwach paliwowych PEM, czujnikach, cewnikac
Minimalne zamówienie:
1 jednostka
Cena:
Negotation
Szczegóły pakowania:
Pakowane przez karton
Zasady płatności:
T/T, western union
Możliwość Supply:
1000 jednostek miesięcznie
Podkreślić

Urządzenia do rozpylania ultradźwiękami o częstotliwości 120 kHz

,

wysokiej częstotliwości ultradźwiękowy rozpraszający spray

,

ultradźwiękowa maszyna do natryskiwania powłok z gwarancją

Opis produktu

Urządzenie do rozpylania rozproszonego ultradźwiękami o wysokiej częstotliwości 120 kHz



Opis: 


Urządzenie do rozpylania rozproszonego ultradźwiękami o wysokiej częstotliwości 120 kHz wykorzystuje rezonans wysokiej częstotliwości 120 kHz przetworników piezoelektrycznych do delikatnego atomizowania ciekłego materiału wsadowego na drobne, równomiernie rozproszone kropelki o rozmiarze mikronowym. Wyposażony w wbudowany kanał przepływu wirowego wewnątrz dyszy, gaz nośny tworzy wirujące pole natrysku rozproszonego pod szerokim kątem, nadając strumieniowi aerozolu doskonałą zdolność powlekania powierzchni.

Zapewnia jednolite, zintegrowane i równomierne powlekanie elementów obrabianych o płaskich powierzchniach, stopniach, rowkach, ściankach bocznych, zakrzywionych powierzchniach i innych zróżnicowanych mikrostrukturach 3D. Rozwiązuje odwieczne ograniczenie branżowe konwencjonalnych dysz ultradźwiękowych skupiających: słabe zwilżanie ścianek bocznych i nierówną grubość warstwy na podłożach o złożonej topografii.

Kompletny system integruje precyzyjny moduł podawania mikrocieczy, system regulacji ciśnienia gazu nośnego i trójosiową platformę ruchomą XYZ, z opcjonalnym modułem kontroli temperatury. Natrysk charakteryzuje się niską energią kinetyczną bez uderzenia pod wysokim ciśnieniem, co niezawodnie chroni delikatne podłoża precyzyjne. Drastycznie redukuje nadmierne rozpylanie i rozpryskiwanie zawiesiny, osiągając znacznie wyższą wydajność materiałową niż tradycyjne rozpylanie dwupłynowe. Dysza charakteryzuje się doskonałą odpornością na zatykanie oraz niższymi kosztami eksploatacji i konserwacji w dłuższej perspektywie.

Grubość powłoki można precyzyjnie regulować od dziesiątek nanometrów do dziesiątek mikronów, zapewniając wyjątkową jednorodność warstwy. Kompatybilny z roztworami o niskiej lepkości i nano-zawiesinami, jest szeroko stosowany w MEA ogniw paliwowych, waflach półprzewodnikowych, urządzeniach MEMS, elementach czujnikowych, cewnikach balonowych medycznych, cienkich warstwach optycznych, elektronicznych powłokach izolacyjnych i innych. Spełnia wymagania dotyczące produkcji ultracienkich warstw, od najnowocześniejszych badań i rozwoju po produkcję pilotażową.



Parametry: 


Model FSW-1202-L
Nazwa Atomizacja dyszy ultradźwiękowej rozproszonej 120 kHz
Częstotliwość 120 kHz
Zakres wielkości cząstek atomizowanych (μm) 10-35
Szerokość natrysku (mm) 40-80
Przepływ natrysku (ml/min) 0,5-20
Wysokość natrysku (mm) 30-80
Lepkość cieczy (cps) <10
Wielkość cząstek (μm) <5
Ciśnienie rozproszenia (Mpa) <0,05
Zastosowanie szeroko stosowany w MEMS, waflach półprzewodnikowych, ogniwach paliwowych PEM, czujnikach, cewnikach balonowych medycznych i cienkich warstwach optycznych



Kluczowe zalety:


✅ Atomizacja o wysokiej częstotliwości 120 kHz generuje kropelki o jednorodnej wielkości, równoważąc jakość drobnej atomizacji i wydajność natrysku

✅ Natrysk rozproszony pod szerokim kątem z przepływem wirowym umożliwia powlekanie 3D rowków, stopni, zakrzywionych powierzchni i ścianek bocznych

✅ Miękki natrysk o niskiej kinetyce chroni delikatne podłoża precyzyjne i skutecznie tłumi aglomerację zawiesiny

✅ Kontrola grubości warstwy w skali nanometrycznej ze stabilną i spójną wydajnością powlekania

✅ Wysoka wydajność surowców redukuje odpady ciekłe; dysza jest odporna na zatykanie, co ułatwia konserwację

✅ Modułowa zintegrowana architektura, możliwość rozbudowy o stopnie grzewcze, uchwyty próżniowe i w pełni automatyczne platformy ruchome



Urządzenie do rozpylania rozproszonego ultradźwiękami o wysokiej częstotliwości 120 kHz



Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz

Urządzenia do rozpraszania ultradźwięków o wysokiej częstotliwości 120 kHz

mapa witryny |  Polityka Prywatności | Chiny dobre. Jakość Spawanie ultradźwiękowe metali Dostawca. Prawa autorskie © 2018-2026 Hangzhou Qianrong Automation Equipment Co.,Ltd Wszystkie. Prawa zastrzeżone.