|
| MOQ: | 1 jednostka |
| Cena: | Negotation |
| Standardowe opakowanie: | Pakowane przez karton |
| Metoda płatności: | T/T, western union |
| Pojemność dostaw: | 1000 jednostek miesięcznie |
Niestandardowy system dyszy rozpraszającej ultradźwiękowo 100 kHz
Opis:
Parametry:
| Model | FSW-1002-L |
| Nazwa | Atomizacja ultradźwiękowa dyszy rozpraszającej 100 kHz |
| Częstotliwość | 100 kHz |
| Zakres rozmiaru cząstek atomizowanych (μm) | 18-46 |
| Szerokość natrysku (mm) | 40-80 |
| Przepływ natrysku (ml/min) | 0,5-20 |
| Wysokość natrysku (mm) | 30-80 |
| Lepkość cieczy (cps) | <15 |
| Rozmiar cząstek (μm) | <5 |
| Ciśnienie rozpraszania (Mpa) | <0,05 |
| Zastosowanie | szeroko stosowany w MEMS, płytkach półprzewodnikowych, ogniwach paliwowych PEM, czujnikach, cewnikach balonowych medycznych i optycznych cienkich warstwach |
Kluczowe zalety:
✅ Atomizacja wysokiej częstotliwości 100 kHz wytwarza gęsto rozmieszczone krople, równoważąc jakość atomizacji i przepustowość
✅ W pełni konfigurowalny: porty płynów, wewnętrzne kanały przepływu i szerokość natrysku mogą być opracowane w celu dopasowania do Twojego procesu
✅ Dedykowany natrysk rozpraszający wir pod szerokim kątem umożliwia równomierne powlekanie konformalne na ścianach bocznych i rowkach nieregularnych struktur 3D
✅ Miękki natrysk o niskiej kinetyce zapobiega uszkodzeniu precyzyjnych podłoży i tłumi aglomerację nano-zawiesin
✅ Precyzyjna kontrola grubości filmu w skali nano ze stabilną jednorodnością powłoki
✅ Ścieżka przepływu dostosowana do specyficznych zawiesin, zwiększona wydajność zapobiegania zatykaniu i zmniejszone straty materiału
✅ Modułowa konstrukcja, elastyczna integracja z etapami grzewczymi, uchwytami próżniowymi i automatycznymi platformami ruchomymi
Niestandardowy system dyszy rozpraszającej ultradźwiękowo 100 kHz
Wideo
Wideo
Wideo
Wideo
Wideo
|
|
| MOQ: | 1 jednostka |
| Cena: | Negotation |
| Standardowe opakowanie: | Pakowane przez karton |
| Metoda płatności: | T/T, western union |
| Pojemność dostaw: | 1000 jednostek miesięcznie |
Niestandardowy system dyszy rozpraszającej ultradźwiękowo 100 kHz
Opis:
Parametry:
| Model | FSW-1002-L |
| Nazwa | Atomizacja ultradźwiękowa dyszy rozpraszającej 100 kHz |
| Częstotliwość | 100 kHz |
| Zakres rozmiaru cząstek atomizowanych (μm) | 18-46 |
| Szerokość natrysku (mm) | 40-80 |
| Przepływ natrysku (ml/min) | 0,5-20 |
| Wysokość natrysku (mm) | 30-80 |
| Lepkość cieczy (cps) | <15 |
| Rozmiar cząstek (μm) | <5 |
| Ciśnienie rozpraszania (Mpa) | <0,05 |
| Zastosowanie | szeroko stosowany w MEMS, płytkach półprzewodnikowych, ogniwach paliwowych PEM, czujnikach, cewnikach balonowych medycznych i optycznych cienkich warstwach |
Kluczowe zalety:
✅ Atomizacja wysokiej częstotliwości 100 kHz wytwarza gęsto rozmieszczone krople, równoważąc jakość atomizacji i przepustowość
✅ W pełni konfigurowalny: porty płynów, wewnętrzne kanały przepływu i szerokość natrysku mogą być opracowane w celu dopasowania do Twojego procesu
✅ Dedykowany natrysk rozpraszający wir pod szerokim kątem umożliwia równomierne powlekanie konformalne na ścianach bocznych i rowkach nieregularnych struktur 3D
✅ Miękki natrysk o niskiej kinetyce zapobiega uszkodzeniu precyzyjnych podłoży i tłumi aglomerację nano-zawiesin
✅ Precyzyjna kontrola grubości filmu w skali nano ze stabilną jednorodnością powłoki
✅ Ścieżka przepływu dostosowana do specyficznych zawiesin, zwiększona wydajność zapobiegania zatykaniu i zmniejszone straty materiału
✅ Modułowa konstrukcja, elastyczna integracja z etapami grzewczymi, uchwytami próżniowymi i automatycznymi platformami ruchomymi
Niestandardowy system dyszy rozpraszającej ultradźwiękowo 100 kHz
